CVD-процесс
Автор:
Джесси Рассел, 107 стр., издатель:
"Книга по Требованию", ISBN:
978-5-5096-0941-1
High Quality Content by WIKIPEDIA articles! CVD-процесс (англ. Chemical vapor deposition — химическое парофазное осаждение) — химический процесс, используемый для получения высокочистых твёрдых материалов. Процесс часто используется в индустрии полупроводников для создания тонких плёнок. Как правило, при процессе CVD подложка помещается в пары одного или нескольких веществ, которые, вступая в реакцию и/или разлагаясь, производят на поверхности подложки необходимое вещество. Часто образуется также газообразный продукт реакции, выносимый из камеры с потоком газа. Данное издание представляет собой компиляцию сведений, находящихся в свободном доступе в среде Интернет в целом, и в информационном сетевом ресурсе "Википедия" в частности. Собранная по частотным запросам указанной тематики, данная компиляция построена по принципу подбора близких информационных ссылок, не имеет самостоятельного сюжета, не содержит никаких аналитических материалов, выводов, оценок морального, этического, политического, религиозного и мировоззренческого характера в отношении главной тематики, представляя собой исключительно фактологический материал.
| В наличии: |
|
My-shop.ru - 1125 руб.
|
Перейти
|
|
Лучшая цена
|