High Quality Content by WIKIPEDIA articles! Multiple patterning is a class of technologies for manufacturing integrated circuits (ICs), developed for photolithography to enhance the feature density. The simplest case of multiple patterning is double patterning, where a conventional lithography process is enhanced to produce double the expected number of features. The resolution of a photoresist pattern begins to blur at around 45 nm half-pitch. For the semiconductor industry, therefore, double patterning was introduced for the 32 nm half-pitch node and below, mainly using state-of-the-art 193 nm immersion lithography tools. Данное издание представляет собой компиляцию сведений, находящихся в свободном доступе в среде Интернет в целом, и в информационном сетевом ресурсе "Википедия" в частности. Собранная по частотным запросам указанной тематики, данная компиляция построена по принципу подбора близких информационных ссылок, не имеет самостоятельного сюжета, не содержит никаких...

В наличии:
	Books.Ru - 1128 руб.	Перейти
Под заказ:
	OZON.ru - 1125 руб.	Перейти

Рейтинг книги: 4 из 5, 5 голос(-ов).